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發(fā)布時(shí)間:2024-04-14作者來(lái)源:薩科微瀏覽:1712
SiC肖特基勢(shì)壘二極管和Si肖特基勢(shì)壘二極管
我們先從SiC肖特基勢(shì)壘二極管(以下簡(jiǎn)稱為"SBD")的結(jié)構(gòu)開(kāi)始介紹。如下圖所示,為了形成肖特基勢(shì)壘,將半導(dǎo)體SiC與金屬相接合(肖特基結(jié))。這種結(jié)構(gòu)與Si肖特基勢(shì)壘二極管基本相同,其重要特征是具備高速特性。
SiC-SBD的特點(diǎn)是不僅具有優(yōu)異的高速性,同時(shí)實(shí)現(xiàn)了高耐壓。提高Si-SBD的耐壓只需增厚圖中的n-型層、降低載流子濃度,但這會(huì)導(dǎo)致阻值上升和VF增高等損耗問(wèn)題,無(wú)法實(shí)際應(yīng)用。因此,Si-SBD的耐壓200V已經(jīng)是極限。而SiC擁有超過(guò)硅10倍的絕緣擊穿場(chǎng)強(qiáng),因此不僅保持實(shí)際應(yīng)用特性,還能耐受高壓。
SiC-SBD和Si-PN結(jié)二極管
針對(duì)SBD以上的高耐壓?jiǎn)栴},我們可以使用PN結(jié)二極管(稱為"PND")來(lái)應(yīng)對(duì)。下圖展示了Si-PN二極管的結(jié)構(gòu)。SBD是僅電子移動(dòng),電流流動(dòng),而PN結(jié)二極管則通過(guò)電子和空穴(孔)使電流流動(dòng)。通過(guò)在n-層積蓄少數(shù)載流子的空穴,使阻值下降,從而同時(shí)實(shí)現(xiàn)高耐壓和低阻值,但關(guān)斷速度會(huì)變慢。
盡管快速恢復(fù)二極管(FRD)利用PN結(jié)二極管提高了速度,但其反向恢復(fù)時(shí)間(trr)等性能不如SBD。因此,提高高耐壓Si PN結(jié)二極管的trr損耗是當(dāng)前研究的重要課題之一。同時(shí),開(kāi)關(guān)電源無(wú)法適應(yīng)高速開(kāi)關(guān)頻率也是需要解決的問(wèn)題之一。
右上圖表示Si的SBD、PND、FRD和SiC-SBD耐壓的覆蓋范圍??梢钥闯鯯iC-SBD基本覆蓋了PND/FRD的耐壓范圍。SiC-SBD可同時(shí)實(shí)現(xiàn)高速性和高耐壓,與PND/FRD相比Err(恢復(fù)損耗)顯著降低,開(kāi)關(guān)頻率也可提高,因此可使用小型變壓器和電容器,有助于設(shè)備小型化。
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