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發(fā)布時(shí)間:2022-03-18作者來(lái)源:薩科微瀏覽:4653
射頻器件的挑戰(zhàn)與創(chuàng)新
在從4G到5G的演進(jìn)過(guò)程中,射頻器件的復(fù)雜性逐漸增加,產(chǎn)品在設(shè)計(jì)、工藝、材料等方面也發(fā)生了逐步的變化。 同時(shí),射頻前端面臨功耗、尺寸、天線數(shù)量、芯片設(shè)計(jì)、溫度漂移、信號(hào)干擾、不同類(lèi)型信號(hào)和諧共存等諸多技術(shù)挑戰(zhàn)。 如何解決這些問(wèn)題是當(dāng)今工業(yè)和射頻器件創(chuàng)新的重點(diǎn)。 隨著半導(dǎo)體材料的發(fā)展,通過(guò)替代Si、GaAs、GaN等RF材料以及陶瓷、玻璃等封裝基板材料,提高功耗、效率、發(fā)熱、尺寸等當(dāng)然很重要。 用于開(kāi)發(fā)射頻設(shè)備。 革新。 但除了材料創(chuàng)新,射頻器件還有哪些創(chuàng)新方式?
制造工藝
目前,射頻器件涉及的主要工藝為GaAs、SOI、CMOS、SiGe等。
GaAs:GaAs的電子遷移速率較好,適合用于長(zhǎng)距離、長(zhǎng)通信時(shí)間的高頻電路。GaAs元件因電子遷移速率比Si高很多,因此采用特殊的工藝,早期為MESFET金屬半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管,后面演變?yōu)镠EMT(高速電子遷移率晶體管),pHEMT(介面應(yīng)變式高電子遷移電晶體),目前為HBT(異質(zhì)接面雙載子晶體管)。
GaAs生產(chǎn)方式和傳統(tǒng)的硅晶圓生產(chǎn)方式大不相同,GaAs需要采用磊晶技術(shù)制造,這種磊晶圓的直徑通常為4-6英寸,比硅晶圓的12英寸要小得多。磊晶圓需要特殊的機(jī)臺(tái),同時(shí)砷化鎵原材料成本高出硅很多,最終導(dǎo)致GaAs成品IC成本比較高;
SOI:SOI工藝的優(yōu)勢(shì)在于可集成邏輯與控制功能,不需要額外的控制芯片;
CMOS:CMOS工藝的優(yōu)勢(shì)在于可以將射頻、基頻與存儲(chǔ)器等組件合而為一的高整合度,并同時(shí)降低組件成本;
SiGe:近年來(lái),SiGe已成了最被重視的無(wú)線通信IC制程技術(shù)之一。依材料特性來(lái)看,SiGe高頻特性良好,材料安全性佳,導(dǎo)熱性好,而且制程成熟、整合度高,具成本較低的優(yōu)勢(shì)。SiGe既擁有硅工藝的集成度、良率和成本優(yōu)勢(shì),又具備第3到第5類(lèi)半導(dǎo)體(如砷化鎵(GaAs)和磷化銦(InP)在速度方面的優(yōu)點(diǎn)。只要增加金屬和介質(zhì)疊層來(lái)降低寄生電容和電感,就可以采用SiGe半導(dǎo)體技術(shù)集成高質(zhì)量無(wú)源部件。
SiGe工藝幾乎能夠與硅半導(dǎo)體超大規(guī)模集成電路中的所有新工藝技術(shù)兼容,是未來(lái)的趨勢(shì)。不過(guò)SiGe要想取代砷化鎵的地位還需要繼續(xù)在擊穿電壓、截止頻率、功率等方面繼續(xù)努力。
射頻PA采用的工藝分別是GaAs、SOI、CMOS和SiGe;射頻開(kāi)關(guān)采用SOI、GaAs工藝;LTE LNA采用的工藝多為SOI、CMOS。
進(jìn)入5G時(shí)代,Sub-6GHz和毫米波階段各射頻元器件的材料和技術(shù)可能會(huì)有所變化。SOI有可能成為重要技術(shù),具有制作多種元器件的潛力,同時(shí)后續(xù)有利于集成。
格芯Chaojing Li和Randy Wolf討論了低噪音放大器(LNA)理論以及在6 GHz以下的應(yīng)用(GPS,蜂窩網(wǎng)絡(luò),Wi-Fi)使用RF-SOI和SiGe技術(shù)規(guī)格的設(shè)計(jì)考慮。兩位演講專(zhuān)家來(lái)自于較早前被收購(gòu)的IBM Microelectronics,Randy擅長(zhǎng)于高速加重器、數(shù)字功率檢測(cè)、PA及Data Converter, 還包括各類(lèi)無(wú)線應(yīng)用上的開(kāi)關(guān),LNA, PA, 負(fù)壓電苛泵及邏輯控制. 擁有22項(xiàng)專(zhuān)利和布魯塞爾大學(xué)本科及MIT碩士學(xué)歷; Chaojing有設(shè)計(jì)LNA, PA, Switchers, VCO, Power Dividers, Couplers, Power Detectors, Phase Shifters, Mixers, Sub-G for WLAN and Satlite application, 發(fā)表學(xué)術(shù)論文20篇并擁有四川大學(xué)本科和克雷頓大學(xué)博士學(xué)歷。
本次網(wǎng)絡(luò)研討會(huì)涵蓋的主題將包括:
+ 典型的6 GHz以下應(yīng)用(GPS,蜂窩網(wǎng)絡(luò),Wi-Fi)和規(guī)格
+ 基本的LNA理論
+ LNA的設(shè)計(jì)注意事項(xiàng):
- 將LNA移動(dòng)到前端模塊的優(yōu)點(diǎn)
- GPS,蜂窩網(wǎng)絡(luò)和Wi-Fi應(yīng)用的設(shè)計(jì)權(quán)衡和技術(shù)考慮
- RF-SOI和SiGe在LNA中的性能
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如何理解/偏置cascode
電流鏡作用:復(fù)制電流、有源負(fù)載...
電流鏡參數(shù):電流匹配、輸出阻抗、輸出電壓范圍、電源抑制比。
比較常用的是cascode
cascode電流鏡的電流源精度主要由M1和M3的匹配程度決定,而與M2和M4的匹配程度關(guān)系不大,所以:
在版圖上需要好好匹配的是M1和M3,而不是M2與M4。
同樣的在根據(jù)PDK中的“mismatch report”中提供的sigma計(jì)算W/L的時(shí)候,也是計(jì)算M1和M3的面積。
現(xiàn)在解釋一下為什么cascode的反饋結(jié)構(gòu)近似是"電流—電壓負(fù)反饋"
↘Vt增大,輸入電流增大
↘Vb1電壓固定,所以增大的是VA
↘VA=Iout*ro1(采樣輸出電流Iout,轉(zhuǎn)換成電壓VA)
↘而A點(diǎn)又是跨導(dǎo)放大器M2的反向輸入端
↘VA增大,Vb2不變,VGS2減小
↘VGS2減小,Iout減小
以上過(guò)程采樣輸出電流,反饋到跨導(dǎo)放大器反向輸入端,與Vb2相減(做電壓相加減),減小電流。所以勉強(qiáng)可以認(rèn)為cascode是一個(gè)“電流-電壓負(fù)反饋”結(jié)構(gòu)。那么根據(jù)電流電壓反饋對(duì)輸出阻抗的影響,最初阻抗是ro1被放大了(1+gm2ro2)倍:
Rout=ro1*(1+gm2ro2)
≈gm2*ro2*ro1
與通過(guò)小信號(hào)電路"嚴(yán)密"計(jì)算的結(jié)果對(duì)比:
Rout=(1 + gm2·ro2)ro1 + ro2
≈gm2*ro2*ro1
可以看兩個(gè)結(jié)果基本一致.
下圖是我以前看Razavi的時(shí)候整理的反饋類(lèi)型對(duì)阻抗影響的結(jié)論,可供參考。顯然M2和M4在環(huán)路中提供了主要增益,所以M2和M4在這里提供的是增益。
也就是說(shuō):如果非得說(shuō)M2和M4的也影響電流鏡精度,那影響點(diǎn)就在他們的本征增益(gm·ro),M2和M4在這種結(jié)構(gòu)中體現(xiàn)的是運(yùn)放的角色,他們的W/L越大,電流鏡越“硬”,也就是輸出阻抗越大。
用電阻偏置
為了M2和M4飽和:
VB-VC≥Vt2
也就是:
IR≤Vt2
為了M1和M3在飽和區(qū):
VC≥VB-Vt1+Vov2+Vt2
VC≥Vov2+(Vt2-Vt1)
結(jié)論:
Vov2+(Vt2-Vt1)≤IR≤Vt2
以上利用電阻的偏置方法中,電阻的阻值受工藝的影響較大,還有就是消耗電壓
用MOS代替電阻
類(lèi)比使用電阻偏置的情況可以得知:
Vov2<VDS5<Vt2
如果M5在飽和區(qū),且尺寸又小,所以一定可以實(shí)現(xiàn) Vov2<VDS5,但是很明顯M5在線性電阻區(qū),所以我們計(jì)算VDS5=Vov2的情況:(讓M5的尺寸小于計(jì)算結(jié)果即可)
類(lèi)比電阻偏置還有一個(gè)條件是,VDS5<Vth,在這里就不計(jì)算了可通過(guò)仿真得到,不能太小這樣不僅消耗了電壓裕度,而且可能讓M2和M4飽和,用這種方法的優(yōu)點(diǎn)是,沒(méi)有電阻,減輕了工藝的影響。但是也消耗了電壓裕度。
用第三路偏置
類(lèi)比方法2 的計(jì)算過(guò)程,同樣適用于方法3,所以將M5和M6合并成一個(gè)管子,所以M7的尺寸應(yīng)該比M1小4倍,但是方法三的缺點(diǎn)是多了一路電流,優(yōu)點(diǎn)是不消耗電壓空間。
本文主要寫(xiě)了cascode的提高阻抗的原因,以及三種偏置辦法。
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