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發(fā)布時間:2024-09-19作者來源:薩科微瀏覽:1163
功率管的最主要的應(yīng)用是控制電流的通斷,即在一定的電壓條件下對流經(jīng)器件的電流進(jìn)行開關(guān)控制。首先,在可以承受的擊穿電壓的前提下(即器件的工作電壓平臺), 器件導(dǎo)通電阻越低,其導(dǎo)通損耗就越低。其次,器件在開關(guān)狀態(tài)間切換時,柵極電荷越 小,器件的開關(guān)速度就越快,其動態(tài)損耗就越低。
圖:MOS管結(jié)構(gòu)
對于功率MOSFET來說,導(dǎo)通電阻與柵極電荷互為權(quán)衡(trade-off)關(guān)系,因為對于同一個器件結(jié)構(gòu)來說,可以通過并聯(lián)更多重復(fù)單元來降低導(dǎo)通電阻,但會導(dǎo)致柵極電荷相應(yīng)地增加;反之減少器件并聯(lián)的重復(fù)單元數(shù),可以使得器件的柵極電荷變小,但其導(dǎo)通電阻會增大。因此,器件的導(dǎo)通電阻與柵極電荷的乘積優(yōu)值(即品質(zhì)因數(shù),F(xiàn)igure of Merit,“FOM”)可以最直觀地反映 MOSFET產(chǎn)品在同等電壓平臺下的綜合性能。
圖:MOS管外形
MOSFET產(chǎn)品的核心指標(biāo)的比較基礎(chǔ)以及相互之間存在的制約關(guān)系如下:
1)高壓MOSFET產(chǎn)品性能的關(guān)鍵指標(biāo)之一是導(dǎo)通電阻Ron與柵極電荷Qg 的乘積優(yōu)值FOM。相同導(dǎo)通電阻下,柵極電荷越小則優(yōu)值越低,器件的動態(tài)損耗越小,整體性能越強。在電壓為限定條件時,功率MOSFET的導(dǎo)通電阻與柵極電荷的乘積越小, 該器件性能更優(yōu),技術(shù)更加先進(jìn)。
2)高壓MOSFET產(chǎn)品性能的另外兩個關(guān)鍵指標(biāo)是導(dǎo)通電阻Ron以及耐壓 BV。相同耐壓下,導(dǎo)通電阻越小,器件的導(dǎo)通損耗越小,器件性能越強。同時,導(dǎo)通電阻可以通過增大芯片面積來實現(xiàn),所以該指標(biāo)需在同一封裝類型下進(jìn)行對比以便限定芯片的面積的上限。相同的封裝下導(dǎo)通電阻Ron 更小的產(chǎn)品才代表更先進(jìn)的技術(shù)水平。
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